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硅片甩干机技术知识科普

点击次数：706  更新时间：2023-03-15
 　　硅片甩干机技术知识科普
　　硅片甩干机是半导体工厂中一个非常重要的设备，它主要用于对硅片进行甩干处理。在半导体工业中，硅片是一种非常关键的材料，它用于制造集成电路、微处理器、太阳能电池等器件。
　　甩干硅片的目的是去除水分，保证硅片表面洁净干燥，以便进行后续的工艺处理。在半导体工业中，由于硅片对水分、微粒等杂质的敏感性非常高，因此甩干硅片的过程必须严格控制，以确保硅片质量。
　　工作原理
　　硅片甩干机通过离心力的作用将硅片上的水分甩出，从而使硅片表面达到干燥的状态。硅片甩干机通常采用空气刀或者真空吸取的方式移除硅片上的水分。在甩干硅片的过程中，硅片被夹在两个旋转的盘中，当盘高速旋转时，甩干装置通过离心力加速水分的甩出，从而使硅片表面干燥。
　　关键技术
　　关键技术包括控制设备的离心速度、水分吸取效率、真空度以及气流方向等方面。
　　离心速度
　　离心速度是关键参数之一，它决定了甩干装置对硅片上的水分的甩出效率。离心速度过慢，水分无法被甩出，过快则容易对硅片造成损伤。因此，离心速度的控制非常关键。
　　水分吸取效率
　　水分吸取效率是指甩干装置吸取水分的效率。在硅片甩干过程中，过高的水分吸取效率可能会导致硅片表面失去一些重要的氧化层，影响器件的性能。
　　真空度
　　硅片甩干机通过真空负压的方式将水分吸取出来，因此真空度是关键参数之一。真空度越高，水分吸取效率越高，但也会带来更高的维护成本。
　　气流方向
　　气流方向是指硅片甩干机中甩干装置产生的气流的方向，气流方向必须严格控制，以确保硅片表面不会受到过高的气流冲刷，否则容易对硅片造成损伤。
　　总体而言，设计和维护非常关键，需要对各项参数进行严格控制，以确保硅片表面干燥、洁净，达到半导体工艺的要求。
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